近日，上海交通大学先进电子材料与器件平台（以下简称“AEMD平台”）迎来十周年庆，同时平台正式开放二、三期运行。
AEMD平台创建于2012年，目标是建立一个服务于全校的微纳加工工艺实验平台，并面向校外科研院所和企业开放共享。一期净化工程于2014年建成并于同年11月正式向校内外用户开放服务，当时建设的工艺线为具有纳米尺寸图形化能力的6英寸无源微纳结构与器件加工的科研实验线，工艺能力涵盖光刻、薄膜、刻蚀、热工艺等全链式微纳加工工艺。十年来平台为上海交通大学多学科发展和交叉融合做出了突出贡献，同时平台面向国家需求，积极对接校外科研院所和科技企业的项目需求，助推科研项目基础与应用研究进程，促进产业关键技术创新与突破。
面向国家重大需求，服务学校双一流建设，平台聚焦微纳技术学科前沿，打破学科壁垒，强化交叉融合，突破关键核心技术，培养国家急需人才。继2014年AEMD一期西区实验室正式开放运行后，在学校及电院支持下，追加逾3亿元投入平台二、三期建设，建成1200余平米、洁净度从十级到千级标准的东区超净间。现整体拥有近1800平米东、西区两个净化实验室，6、8英寸先进微纳加工实验线各一条，具备多层级光刻图形化、薄膜生长与沉积、干法刻蚀、湿法清洗与刻蚀、先进封装、表征与测试等完善的微纳加工与测试能力，新增全自动深紫外步进式光刻机、离子注入机、分子束外延、激光诱导玻璃刻蚀、晶圆键合等先进的微纳加工与封装设备，有效增强了平台在有源电/光器件、MEMS、先进三维封装等领域的科研服务支撑能力。
近年来，随着万物互联、人工智能等技术的飞速发展，对微纳技术也提出了更高的要求，AEMD在一期科研条件的支持下，在新型光电器件、MEMS器件等方面提前布局，支撑校内外科研团队在相关领域实现突破，取得了丰硕的成果。在此基础上，面向国家重大需求，服务交大双一流建设目标，AEMD二、三期又针对有源电/光器件、MEMS、异质异构先进封装等方面做前瞻布局，以期将交大微纳科学基础与应用研究能力提升到更高水平。
十余年来，AEMD平台不断精进与创新自身的工艺能力，全力支撑用户科研攻关，取得了很大的进步。为了展现微纳加工领域的匠人匠心，AEMD平台于会前特向广大用户征集科研成果，举办学生用户成果展大赛，并特别设置用户成果展区，重点展示十年间由平台支持的代表性用户科研成果，包括新型光电器件、三维集成存储系统、超材料能源器件等尖端领域。活动现场，与会领导及嘉宾向获奖者颁发荣誉证书，并以此鼓励平台用户不断产出高水平科研成果。获奖者表示，平台不仅是为他们提供技术支持的关键力量，更是科研探索中的重要合作伙伴。
头图为实验室现场。劳动报记者 贡俊祺 摄影
